❶ 北京301醫院整形修復科陶然上瞼下垂靠譜嗎
你好,抄因斜視的類別不同,一般可分襲為手術療法與非手術療法。(一)手術療法乃以手術的方法調整外眼肌的強度與附著點的位置,使眼位趨於正常。先天性內斜視與上下斜視大多需要手術治療,非調節性而且斜度大的斜視通常亦需要借著手術的方法來矯正。
指導意見:
(二)非手術療法:並非所有的斜視都需要手術治療,如果是調節性內斜視,只要戴上適當的遠視眼鏡或雙光鏡就可以矯正。如果並有中高屈光異常,亦常需配戴眼鏡來矯正,另外可借著軸矯正訓練的方法來幫助兩眼單視能的恢復與增加融像能力。例如以視軸矯正訓練機來訓練,或者配戴棱鏡鏡片……等。如
❷ 眼睛斜視可以整形嗎價格大概多少
斜視是一種常見病、多發病,在人群中有1%的患病率。由於生活水平低,加之對此病的了解和認識不夠,這種嚴重危害視功能又影響美觀的疾病,長期以來沒有得到應有的重視,使許多原本可以早期發現、早期矯正的病例錯過了最佳治療時期,甚至有人終身斜視,給自己只有一次的生命留下了不該有的遺憾。
其實,在目前的醫療水平和條件下,斜視是一種完全可以通過治療糾正的疾病。在各種類型的斜視中,有一部分是不需要手術治療的,像屈光調節性內斜視,早期進行驗光,用適當的眼鏡,正確的配戴方法,完全可以矯正斜視;但有一部分斜視,則需早期手術治療,才能有利於兒童視覺的發育,防止弱視及異常視網膜對應的發生,像大斜度的先天性內外斜視,高低斜視等等。經常看到有小孩從小就向一側歪頭,眼球往上翻,他很可能就患有先天性上斜肌麻痹,經過早期手術治療後,一般都能恢復雙眼視功能,斜視及歪頭也能隨之矯正。
在現階段,對於一個配備有同視機、三棱鏡、斜視視野弧及現代醫學驗光配鏡設備和專科醫師的眼科機構來說,斜視手術的效果有了極大的提高,過去的斜視手術,任何眼科醫師都會做、都敢做,只是很多做過斜視手術的病人,看起來眼睛仍「不對勁」,有的水平方向矯正了,垂直方向仍偏斜,或歪頭等情況仍未得到解決;有的術後眼球白色的鞏膜下可見到大黑線頭,十幾年不消退,非常難看……。
針對以前的弊病,我們現在的做法已有了極大的改進,首先考慮病人是什麼類型的斜視,有沒有垂直肌的異常,眼球運動情況怎樣,是需要盡早手術還是保守治療,術前如何配戴眼鏡,戴多長時間該加減度數,需不需要弱視訓練及遮蓋,如何配合訓練矯正異常視網膜對應等等。手術設計時,即要結合屈光度的情況考慮是否需過度矯正或欠一點點,考慮患者的遠期效果;同時也要結合集合和外展有無過強或不足考慮手術量的分配。三棱鏡及視野弧的應用也徹底糾正了原來用手電筒確定斜度時帶來的不精確,加上進口可吸收縫線的應用及手術切口的改良等等,目前已能做到處理合理、治療科學到位、手術設計精確、切口美觀,外表不留痕跡。現代斜視顯微手術的開展,更為復雜的斜視病人減少手術次數,避免分期手術提供了一種新的途徑,手術方式更趨合理與科學,能同時兼顧病人對功能與美容的需求。
需強調的是,各類斜視均需要早期治療。只有在兒童視覺發育的階段矯正斜視,才能得到視功能的恢復,提高生活質量。如果拖到成年以後才進行治療,就只能做手術矯正眼位,起到美容的作用了。不過令人欣慰的是,成年以後的斜視病人也能從現代的診療方法中受益,至少通過專業設計的斜視手術能做得更為精確,彷彿天成,切口不留痕跡。
臨床上除了完全由遠視眼調節過度、輻輳過強引起的調節性內斜,戴鏡可以使斜視全部矯正外,其他各類斜視基本都需要手術矯正。
斜視手術後獲得一定程度的融合功能將有利於維持眼球正位,眼球正位可使部分病人恢復正常的或一定程度的立體視,特別是間歇性或新近發病患者可望獲得良好的雙眼單視功能。故不論何種斜視,用保守方法及訓練療法無效時,如手術可使眼肌恢復正常協調一致的功能,斜視不但在原位時變為正位,而且各方向運動時同步一致,能雙眼單視,有立體視,手術無不良並發症者,都可手術。隱斜或間歇性斜視的患者,常述眼疲勞,嚴重影響工作,一旦保守治療(如戴負鏡片或三棱鏡等)失敗,也可考
慮手術治療。手術矯正眼位能夠減少過度集合,消除過度調節,使視疲勞症狀減輕、消失。有些患者為了消除復視或提高視力,常表現出代償頭位。頭位偏、斜頸較重,影響美觀,如手術能解決代償頭位且無並發症,也可作為斜視手術適應症。 麻痹性斜視或其他非共同性及共同性斜視時,患者常訴有復視,經戴鏡及保守療法半年以上無效時,可通過斜視手術消除復視,恢復一個或多個診斷眼位的雙眼單視。如斜視手術僅能使眼位正位或基本正位,達到一定的美容目的,且術前病人已理解的,也可作為斜視手術適應症。
價格要看當地消費水平了 大約在3000元左右!
❸ 雙頻激光干涉儀原理
雙頻激光干涉儀
雙頻激光干涉儀是在單頻激光干涉儀的基礎上發展的一種外差式干涉儀。和單頻激光干涉儀一樣,雙頻激光干涉儀也是一種以波長作為標准對被測長度進行度量的儀器。雙頻激光干涉儀可以在恆溫,恆濕,防震的計量室內檢定量塊,量桿,刻尺和坐標測量機等。它既可以對幾十米的大量程進行精密測量,也可以對手錶零件等微小運動進行精密測量,既可以對幾何量如長度、角度.直線度、平行度、平面度、垂直度等進行測量,也可以用於特殊場合,諸如半導體光刻技術的微定位和計算機存儲器上記錄槽間距的測量等等。
中文名
雙頻激光干涉儀
用途
量桿刻尺和坐標測量機
優越性
精度高應用范圍廣環境適應力強
應用
磨床、鏜床和坐標測量機
快速
導航
優越性:特點及應用
簡介
激光的出現在世界計量史上具有重大的意義。
用穩頻的氦氖激光器作為光源,由於它的相干長度很大,干涉儀的測量范圍可以大大的擴展;而且由於它的光束發散角小,能量集中,因而它產生的干涉條紋可以用光電接收器接收,變為電訊號,並由計數器一個不漏的記錄下來,從而提高了測量速度和測量精度,比如說我國自行設計與製造的以氦氖激光器作為光源的光電光波比長儀,可以在20分鍾之內把1米線紋尺上1001條刻線依次自動鑒定完畢,精度達到±0.2μm,這就是激光干涉儀的成功例證。
但是這種單頻的激光儀並非完美,它的一個根本弱點就是受環境影響嚴重,在測試環境惡劣,測量距離較長時,這一缺點十分突出。其原因在於它是一種直流測量系統,必然具有直流光平和電平零漂的弊端。激光干涉儀可動反光鏡移動時,光電接收器會輸出信號,如果信號超過了計數器的觸發電平則就會被記錄下來,而如果激光束強度發生變化,就有可能使光電信號低於計數器的觸發電平而使計數器停止計數,使激光器強度或干涉信號強度變化的主要原因是空氣湍流,機床油霧,切削屑對光束的影響,結果光束發生偏移或波面扭曲。這種無規則的變化較難通過觸發電平的自動調整來補償,因而限制了單頻干涉儀的應用范圍,只有設法用交流測量系統代替直流測量系統才能從根本上克服單頻激光干涉儀的這一弱點。
❹ 激光與條形碼
激光條碼掃描器
激光條碼掃描器:由於其獨有的大景深區域、高掃描速度、寬掃描范圍等突出優點得到了廣泛的使用。另外,激光全形度激光條碼掃描器由於能夠高速掃描識讀任意方向通過的條碼符號,被大量使用在各種自動化程度高、物流量大的領域。
激光條碼掃描器由激光源、光學掃描、光學接收、光電轉換、信號放大、整形、量化和解碼等部分組成。下面將詳細討論這些組成部分。
(一)激光源
採用MOVPE(金屬氧化物氣相外延)技術製造的可見光半導體激光器具有低功耗、可直接調制、體積小、重量輕、固體化、可靠性高、效率高等優點。它一出現即迅速替代了原來使用的He-Ne激光器。
半導體激光器發出的光束為非軸對稱的橢圓光束。出射光束垂直於P-W結面方向的發散角V⊥≈30°,平行於結面方向的發散角V‖≈10°。如採用 傳統的光束準直技術,光束會聚點兩邊的橢圓光斑的長、短軸方向將會發生交換。顯然這將使掃描器只有小的掃描景深。Jay M.Eastman等提出採用圖3所示的光束準直技術,克服了這種交換現象,大大地提高了掃描景深范圍。這種橢圓光束只能應用在單線激光掃描器上。布置光 路時,應讓光斑的橢圓長軸方向與光線掃描方向垂直。對於單線激光條碼掃描器,這種橢圓光斑由於對印刷雜訊的不敏感性,將比下面所說的圓形光斑特性更好。 對於全形度條碼激光條碼掃描器,由於光束在掃描識讀條碼時,有時以較大傾斜角掃過條碼。因此,光束光斑不宜做成橢圓形。通常都將它整形成圓形。目 前常用的整形方案是在準直透鏡前加一小圓孔光闌。此種光束特性可用小孔的菲涅耳衍射特性來很好地近似。採用這種方案,對於標准尺寸UPC條碼,景深能做到 大約250mm到300mm。這對於一般商業POS系統已經足夠了。但對如機場行李輸送線等要求大景深的場合,就顯得不夠了。目前常用的方案是增大條碼符 號的尺寸或使組成掃描圖案的不同掃描光線會聚於不同區域形成「多焦面」。但是更有吸引力的方案是採用特殊的光學準直元件,使通過它的光場具有特殊的分布從 而具有極小的光束發散角,得到較大的景深。
(二)光學掃描系統
從激光源發出的激光束還需通過掃描系統形成掃描線或掃描圖案。全形度條碼激光條碼掃描器一般採用旋轉棱鏡掃描和全息掃描兩種方案。全息掃描系統具 有結構緊湊、可靠性高和造價低廉等顯著優點。自從IBM公司在3687型掃描器上首先應用以來得到了廣泛的應用,且不斷推陳出新。可以預料,它所佔的市場 份額將會越來越大。
旋轉棱鏡掃描技術歷史較悠久,技術上較成熟。它利用旋轉棱鏡來掃描光束,用一組折疊平面反射鏡來改變光路實現多方向的掃描光線。目前使用較多的 MS-700等掃描器產品還使旋轉棱鏡不同面的楔角不同而形成一個掃描方向上有幾條掃描線。由多向多線的掃描光線組成一個高密度的掃描圖案。這種方法可能 帶來的另一個好處是可使激光輻射危害減輕。 全形度掃描這個概念最早是為了提高超級市場的流通速度而提出的,並設計了與之相應的UPC條碼。對於UPC碼兩個掃描方向的「X」掃描圖案就已能 實現全形度掃描。隨著掃描技術的發展,條碼應用領域的拓寬以及提高自動化程度的迫切需要,現在正在把全形度掃描這個概念推廣到別的碼制,如39碼、交插 25碼等。這些碼制的條碼高寬比較小,為了實現全形度掃描將需要多得多的掃描方向數。為此除旋轉棱鏡外還將需要增加另一個運動元件,例如旋轉圖4中的折疊 平面鏡組等。
手持單線掃描器由於掃描速度低、掃描角度較小等原因,能用來實現光束掃描的方案就很多。除採用旋轉棱鏡、擺鏡外,還能通過運動光學系統中的很多部 件來達到光束掃描。如通過運動半導體激光器、運動準直透鏡等來實現光束掃描。而產生這些運動的動力元件除直流電機外,還可以是壓電陶瓷和電磁線圈等。這些 動力元件具有不易損壞、壽命長和使用方便等優點,估計亦將會得到一定的應用。
❺ 戴散光眼鏡斜視直的東西有弧度什麼原因
鏡片的象差問題,
一般眼鏡或都或少都有這個問題,老眼鏡應該也有這個現象,但老眼鏡習慣了不太在意而已,老眼鏡度數淺這種現象也會好一點,新眼鏡度數深這種現象要明顯一點。
輕微的這種現象應視為正常,解決方法是盡量用鏡片中心視物。
❻ 如何將string或char類型的數字轉換為整形的數字
常見的筆記本故障大全筆記本電腦由於其結構的特殊性,決定了其維修的復雜性。但筆記本電腦終究是電腦的一種,它的維修原理與普通台式機是基本相同的。如果你是一位筆記本電腦用戶,而且對它的維修方面的知識感興趣,那麼你可以參看本文,這里列舉了一些解決筆記本電腦故障的分析處理過程,也許會使你得到一些幫助。
筆記本常見故障-開機不亮-硬體判斷
---筆記本電腦主板BIOS出現故障會引起開機不亮
---筆記本電腦CPU出現故障筆記本液晶屏無反應,也是開機不亮的原因。
--筆記本電腦信號輸出埠出現故障會引起開機不亮
---筆記本電腦主板顯卡控制晶元出現故障會引起開機不亮
---筆記本電腦顯卡出現故障會引起開機不亮
---筆記本電腦內存出現故障會引起開機不亮
筆記本電池充不進電-硬體故障判斷
---筆記本電腦電源適配器出現故障會引起電池充不進電
---筆記本電腦電池出現故障會引起電池充不進電。
---筆記本電腦主板電源控制晶元出現故障會引起電池充不進電
---筆記本電腦主板其它線路出現故障會引起電池充不進電
筆記本不認外設-硬體故障判斷
---筆記本電腦相關外設硬體出現故障會引起筆記本不認外設
---筆記本電腦BIOS出現故障設置出錯會引起筆記本不認外設。
---筆記本電腦主板外設相關介面出現故障會引起筆記本不認外設
---筆記本電腦主板出現故障也會引起筆記本不認外設沒同時筆記本電腦不開機。
筆記本主板出現故障會引發如下現象特徵
---筆記本電腦開機後不認筆記本硬碟。
---筆記本電腦開機後不認筆記本光碟機。
---筆記本電腦電池不充電。
---筆記本電腦定時或不定時關機。
---筆記本電腦鍵盤不靈。
---筆記本電腦開機時有時會掉電。
---筆記本電腦定時死機
以上這些故障現象都與筆記本主板相關
筆記本電源適配器引起的故障現象
--筆記本電腦開機不亮。
---筆記本電腦間斷性死機。
--筆記本電源適配器發熱。
--筆記本電腦光碟機讀DVD或容易死機或掉電。
--筆記本電腦運行大行程序容易死機或掉電。
以上這些故障現象都與記本電源適配器相關
筆記本光碟機介紹
筆記本光碟機──機械驅動部分。
筆記本光碟機──激光頭組件。
筆記本光碟機故障主要來自這兩個部位(筆記本光碟機)。
一、驅動機械部分主要由3個小電機為中心組成:碟片載入機構由控制進、出盒倉(載入)的電機組成,主要完成光碟進盒(載入)和出盒(卸載);激光頭進給機構由進給電機驅動,完成激光頭沿光碟的半徑方向由內向外或由外向內平滑移動,以快速讀取光碟數據;主軸旋轉機構主要由主軸電機驅動完成光碟旋轉,一般採用DD控制方式,即光碟的轉軸就是主軸電機的轉軸。
二、激光頭組件各種光碟機最重要也是最脆弱的部件,主要種類有單光束激光頭、三(多)光束激光頭、全息激光頭等幾類。它實際是一個整體,普通單光束激光頭主要由半導體激光器、半透棱鏡/準直透鏡、光敏檢測器和促動器等零部件構成
筆記本光碟機常見故障解析
筆記本光碟機最常見的故障是機械故障,其次才是電路方面故障,而且電路故障中由用戶調整不當引起的故障要比元器件損壞的故障多得多,所以在拆解或維護光碟機設備時不要隨便調整筆記本光碟機內部各種電位器
筆記本光碟機常見故障主要有三類:操作故障、偶然性故障和必然性故障。
1、操作故障例如驅動出錯或安裝不正確造成在Windows或DOS中找不到筆記本光碟機;筆記本光碟機連接線或跳線錯誤使筆記本光碟機不能使用;CD線沒連接好無法聽CD;筆記本光碟機未正確放置在拖盤上造成光碟機不讀盤;光碟變形或臟污造成畫面不清晰或停頓或馬賽克現象嚴重;拆卸不當造成光碟機內部各種連線斷裂或松脫而引起故障等。
2、偶然性故障筆記本光碟機隨機發生的故障,如機內集成電路,電容,電阻,晶體管等元器件早期失效或突然性損壞,或一些運動頻繁的機械零部件突然損壞,這類故障雖不多見,但必須經過維修及更換才能將故障排除,所以偶然性故障又被稱為"真"故障。
3、必然性故障筆記本光碟機在使用一段時間後必然發生的故障,主要有:激光二極體老化,讀碟時間變長甚至不能讀碟;激光頭組件中光學鏡頭臟污/性能變差等,造成音頻/視頻失真或死機;機械傳動機構因磨損、變形、松脫而引起故障。
需要說明的是必然性故障的維修率不僅取決於產品的質量,而且還取決於用戶的人為操作和保養及使用頻率與環境。
常見故障的判斷
1、開機檢測不到光碟機先檢查一下光碟機跳線跳正確與否;然後檢查光碟機IDE介面是否插接不良,如沒有,可將其重新插好、插緊;最後,有可能是數據線損壞
2、進出盒故障表現為不能進出盒或進出盒不順暢,可能原因及排除方法是,進出盒倉電機插針接觸不良或電機燒毀--可重插或更換;進出盒機械結構中的傳動帶(橡皮圈)松動打滑
3、激光頭故障故障現象表現為挑盤(有的盤能讀,有的盤不能讀)或者讀盤能力差。光碟機使用時間長或常用它看VCD或聽CD,激光頭物鏡變臟或老化。
★敬告大家千萬不要使用市面上銷售的一些低價劣質光頭清潔盤,因為這些盤的刷毛太硬,反而會刮花物鏡,並且還有可能引起靜電危害,縮短光碟機使用壽命。
4、激光信號通路故障指的是激光頭與電路板之間的連接線,是激光頭與其他電路信息交換的通道。此處產生故障較多。。
5、主軸信號通路故障一般情況下,主軸電機與其驅動電路是合二為一的,稱為主軸信號通路,此電路也由一條與激光信號通路連線一樣的連接線連接,只不過股數不一樣罷了。由於它與激光頭信息通路都是由伺服電路進行信息溝通的。因而,在故障現象上有許多相似的地方,但由於激光頭信息通路在進出盒時,其連接線易被拉折而損壞,所以在遇到相同故障現象時應先考慮激光頭信息通路故障,再考慮主軸信號通路故障。
筆記本鍵盤如果出現故障引起的故障現象
筆記本電腦使用的故障主要有開不了機。
筆記本在使用過程中時而出現死機。
筆記本鍵盤的某個鍵出現使用不靈。
硬體故障現象
一、不加電 (電源指示燈不亮)
1. 檢查外接適配器是否與筆記本正確連接,外接適配器是否工作正常。
2. 如果只用電池為電源,檢查電池型號是否為原配電池;電池是否充滿電;電池安裝的是否正確。
3. 檢查DC板是否正常;
4. 檢查、維修主板
二、電源指示燈亮但系統不運行,LCD也無顯示
1. 按住電源開關並持續四秒鍾來關閉電源,再重新啟動檢查是否啟動正常。
2. 外接CRT顯示器是否正常顯示。
3. 檢查內存是否插接牢靠。
4. 清除CMOS信息。
5. 嘗試更換內存、CPU、充電板。
6. 維修主板
三、顯示的圖像不清晰
1. 檢測調節顯示亮度後是否正常。
2. 檢查顯示驅動安裝是否正確;解析度是否適合當前的LCD尺寸和型號。
3. 檢查LCD連線與主板連接是否正確; 檢查LCD連線與LCD連接是否正確。
4. 檢查背光控制板工作是否正常。
5. 檢查主板上的北橋晶元是否存在冷焊和虛焊現象。
6. 嘗試更換主板。
四、無顯示
1. 通過狀態指示燈檢查系統是否處於休眠狀態,如果是休眠狀態,按電源開關鍵喚醒。
2. 檢查連接了外接顯示器是否正常。
3. 檢查是否加入電源。
4. 檢查LCD連線兩端連接正常。
5. 更換背光控制板或LCD。
6. 更換主板。
五、電池電量在Win98 / Win Me中識別不正常
1. 確認電源管理功能在操作系統中啟動並且設置正確。
2. 將電池充電三小時後再使用。
3. 在Windows 98 或Windows Me中將電池充放電兩次。
4. 更換電池。
六、觸控板不工作
1. 檢查是否有外置滑鼠接入並用MOUSE測試程序檢測是否正常。
2. 檢查觸控板連線是否連接正確。
3. 更換觸控板
4. 檢查鍵盤控制晶元是否存在冷焊和虛焊現象
5. 更換主板
七、串口設備不工作
1. 在BIOS設置中檢查串口是否設置為「ENABLED」
2. 用SIO測試程序檢測是否正常。
3. 檢查串口設備是否連接正確。
4. 如果是串口滑鼠,在BIOS設置檢查是否關閉內置觸控板;在Windows 98 或Me的設備管理器中檢查是否識別到串口滑鼠;檢查串口滑鼠驅動安裝是否正確。
5. 更換串口設備。
6. 檢查主板上的南橋晶元是否存在冷焊和虛焊現象。
7. 更換主板。
八、並口設備不工作
1. 在BIOS設置中檢查並口是否設置為「ENABLED」。
2. 用PIO測試程序檢測是否正常。
3. 檢查所有的連接是否正確。
4. 檢查外接設備是否開機。
5. 檢查列印機模式設置是否正確。
6. 檢查主板上的南橋晶元是否存在冷焊和虛焊現象。
7. 更換主板。
九、USB口不工作
1. 在BIOS設置中檢查USB口是否設置為「ENABLED」。
2. 重新插拔USB設備, 檢查連接是否正常。
3. 檢查USB埠驅動和USB設備的驅動程序安裝是否正確。
4. 更換USB設備或聯系USB設備製造商獲得技術支持。「ENABLED」
5. 更換主板。
十、音效卡工作不正常
1. 用AUDIO檢測程序檢測是否正常。
2. 檢查音量調節是否正確。
3. 檢查聲源(CD、磁帶等)是否正常。
4. 檢查音效卡驅動是否安裝。
5. 檢查喇叭及麥克風連線是否正常。
6. 更換音效卡板
7. 更換主板。
十一、風扇問題
1. 用FAN 測試程序檢測是否正常,開機時風扇是否正常
2. FAN線是否插好?
3. FAN是否良好?
4. M/B部分的CONNECTER是否焊好?
5. 主板不良
十二、KB問題
1. 用KB測試程序測試判斷
2. 鍵盤線是否插好?
3. M/B部分的CONNECTER是否有針歪或其它不良
4. 主板不良
軟體故障的分類
十三、驅動程序類
1. 顯示不正常;
2. 音效卡不工作;
3. Modem,LAN不能工作
4. QSB不能使用
5. 某些硬體因沒有載入驅動或驅動程序載入不正確而不能正常使用
十四、操作系統類
1. 操作系統速度變慢
2. 有時死機
3. 機型不支持某操作系統
4. 不能正常關機
5. 休眠死機
十五、應用程序類
1. 應用程序沖突導致系統死機
2. 應用程序導致不系統不能正常關機
3. 應用程序沖突導致不能正常使用
一.電池使用問題
1、新電池需要像手機一樣充電12小時么?
雖然筆記本電腦的電路設計要比手機完善許多,但是為了讓新電池能夠以更好的狀態投入工作,電池的激活和校準工作還是需要進行的,廠商通用的做法是新筆記本在第一次開機時電池應帶有3%的電量,此時,應該先不使用外接電源,而是把電池裡的余電用盡,直至關機,然後再用外接電源充電。然後還要把電池的電量用盡後再充,充電時間一定要超過12小時,反復做三次,以便激活電池。
2、為什麼電池沒用使用電量也減少了?
由於環境濕度和非絕對絕緣環境的影響,電池都存在自然消耗的現象,視電池的新舊程度和品質,3-4天會下降1%左右,所以只要不是大幅度的下降都屬於正常現象。
3、使用電源需要把電池取下么?
一般筆記本電腦的充電設計都是在電量低於95%才會充電的,而且由於自然損耗的存在,所以對於電池的損耗,取下與不取下基本都是相同的,因此是否取下視習慣而定,如果取下建議將電池包裹在保鮮膜內並放置於乾燥陰涼處,且記得1個月左右至少使用一次電池並充電,以避免電池失去活性。
4、電池沒有完全用完就充電是否會減少壽命?
電池的壽命一般按照完全充電次數計算,Li電池一般為300-400次。當然你不必擔心接通電源對電池進行一次充電,哪怕只有一點就會被計算一次,電池的充電次數一般只有當電量累計充至80-90%才會增加一次,所以不用擔心。在此還要說下,筆記本電池通常用的是鋰電池,所以要避免在高溫環境下使用鋰電池,專家研究,高溫狀態下會加速鋰電池的老化過程,並且同樣的不要在極端的低溫環境下使用。低溫環境會降低鋰電池的活性,降低筆記本電池的壽命。定期為鋰電池進行激活處理,就是完全充電和放電,讓鋰電池恢復最大容量。做法就是,關閉所有電源管理,讓筆記本慢慢的放電直至完全沒電,然後在完全充電,重復兩到三次即可。炎熱的天氣里,盡可能的維護好自己的自己的筆記本電池,才能讓筆記本電腦更好的發揮自身的作用。
二.筆記本散熱問題
目前筆記本散熱一般都採用的散熱管散熱、鍵盤對流散熱、溫控風扇三級散熱方式。個人認為技術比較先進的還是IBM和東芝,雖然東芝的本本不被很多人看好。
1、為什麼風扇在開機的時候轉一下就再也不轉了?
由於筆記本電腦的溫控設計,所以開機風扇自檢後就會停止旋轉,只有當機內達到一定溫度時才會加速旋轉,這也是為什麼當你進行高負荷工作,諸如播放高解碼率視頻,3D游戲等時風扇高速旋轉的原因。
2. 使用筆記本應注意周圍環境嗎?
使用筆記本的時候,要注意周圍環境的整潔,通常筆記本最理想的工作溫度是在10℃~35℃,且濕度不要太大。尤其在炎熱的夏季,要保持周圍環境的通風良好, 盡量在空調間里使用筆記本。電腦外殼上的凹槽和開口是用來通風的。為了確保電腦能可靠的工作並防止過熱,請勿阻塞或遮蓋這些開口。請勿將電腦擺放在腿上、床上或者沙發上,這些都是不可取的,柔軟的東西都將筆記本底部的散熱孔堵住,使得筆記本的熱量無法順利導出從而出現故障。可以在機器的底部從後端墊些書本之類的東西(偶用的是紅茶的瓶子蓋),讓筆記本的底面與桌面保持一些空間,筆記本的底部就不會緊貼在桌面上。這樣會有更多的熱量從底部散發出去,或者你也可以加一個散熱的底座來加大筆記本底部風流速度。市場上還出現了一些散熱的外置裝備,類似於U盤之類的或者內置的散熱模塊,不過偶還沒有用過。
3. 關閉筆記本:
當你完成了工作,關閉筆記本,盡量讓你的筆記本好好休息。
不要讓你的筆記本開著的時候放在包包里
。經常清潔通風口,筆記本內置的風扇都有一個通風口。過了一段時間,通風口就會積聚著灰塵,這些灰塵會堵塞通風口。
同時必要的時候你可以用診斷工具測試筆記本的風扇是否工作正常。如果有專門的工具,你也可以打開風扇的地方,清除灰塵。
4. 升級筆記本的BIOS:
有時候,發熱意味著計算機風扇的控制器需要BIOS升級。新版本的BIOS可以使得筆記本風扇工作得更有效率。如果你覺得你的筆記本變得越來越熱,你不妨到網站上查看是否有新的BIOS提供。
筆記本的散熱至今還沒有很完美的,隨著功能的強大,產熱量會越大,這樣的也給散熱系統帶來了壓力,一般的筆記本問題用專業軟體檢測,像現在的這個天氣(室溫在30度左右)CPU和硬碟的溫度大約在60度以上也屬於正常。
三.屏幕問題
1.亮點和壞點
所謂壞點,是指LCD液晶顯示器屏幕上無法控制的恆亮或恆暗的點。壞點的造成是LCD面板生產時因各種因素造成的瑕疵,如可能是某些細小微粒落在面板裡面,也可能是靜電傷害破壞面板,還有可能是製程式控制制不良等等。
壞點分為兩種:亮點與暗點。亮點就是在任何畫面下恆亮的點,切換到黑色畫面就可以發現;暗點就是在任何畫面下恆暗的點,切換到白色畫面就可以發現。一般剛買回來的筆記本或者在買的時候,用軟體檢測下屏幕的亮點或者壞點,一般根據品牌不同,對這個的標准不同德,一般不能多於三個。檢測軟體用MonitorTest就可以了。同時,平時要減少屏幕在日光下暴曬的可能,白天使用,盡量拉上窗簾,以防屏幕受日照後,溫度過高會加快老化
2.如何擦屏幕
如果僅僅是灰塵,那麼可以先用氣吹將灰塵盡量吹去,然後再用濕潤的軟布擦拭,軟布要擰干,否則水可能會順著屏幕表面流入高壓包中造成屏幕損壞。如果是油污或者較難去除的污漬可以購買液晶屏幕專用清潔劑清除,切記不要使用沒有質量保障的清潔劑,否則其中的醇類等腐蝕性化學成分會對屏幕造成損傷。中關村一般賣筆記本帶的是亮潔的清潔套裝,用這個就可以。切忌:勿用手或者硬東西擦拭屏幕。
3是否要貼膜?
本人不建議貼膜,雖說屏幕膜會對它起一個保護作用,但是這個位置一般是傷不到的,貼膜本身的成分會對屏幕有一定得傷害,還會影響散熱。
4.有時候使用電池的時候屏幕會發出吱吱的聲音
一般最新的筆記本沒有這個問題了,老些的電腦或者質量部好的會有這個問題,就這個問題需要從兩方面來解釋:其一,在電池供電的時候,由於筆記本電腦節能特性的作用,整個筆記本電路的電壓是在不斷的變化的,這時通過屏幕高壓包中的通電線圈的電流是處在不斷的變化中的,而這個時候高壓線圈發出的變頻聲也是中學物理知識所涉及的。如果筆記本電腦的電磁屏蔽較差,這種聲音就會被用戶聽到,因此我們說這種現象在一些技術功底較弱的品牌的筆記本電腦中較為常見,實際很多朋友反應電源適配器會發生聲音也是這個原因造成的。其二,這種聲音也可能是高頻噪音,這種聲音和其一所述的聲音最大的不同是高頻噪音是一種會令人抓狂的聲音,相信聽過這種聲音的朋友都會有所體會。一般這種聲音屬於主板設計缺陷,如果情況比較普遍,廠商都會發布解決此問題的BIOS更新文件,比如近期的IBM T40、HP NC6000都不同程度存在這個問題,廠商也已經發布了新的BIOS以供解決。
2012-7-21 16:12:02b望①Оq①Оzrf⊙旦xs擷b漏uh悌訕如何將string或char類型的數字轉換為整形的數字?
❼ 激光線掃描工作原理
激光光源為密閉式,較不易受環境的影響,且容易形成光束,常採用低功率的可見光激光,如氦氖激光、半導體激光等。
而掃描器為旋轉多面棱規或雙面鏡,當光束射入掃描器後,即快速轉動使激光光反射成一個掃描光束。光束掃描全程中,若有工件即擋住光線,因此可以測知直徑大小。
測量前,必須先用兩支已知尺寸的量規作校正,然後所有測量尺寸若介於此兩量規間,可以經電子信號處理後,即可得到待測尺寸。
激光成像:利用激光束掃描物體,將反射光束反射回來,得到的排布順序不同而成像。用圖像落差來反映所成的像。
激光成像具有超視距的探測能力,可用於衛星激光掃描成像,未來用於遙感測繪等科技領域。
(7)棱鏡整形擴展閱讀:
基本特點
1、零級精度200mm厚花崗石平台作機身,穩定不變形,精度持久保持。
2、採用1μm光學式電子尺做測量定位,全閉循環式運動控制,提高抄數機的定位精度。
3、採用線激光掃描,速度快,每秒2000-10000點。
4、雙CCD取點,消除掃描死角。
5、開放式掃描設計,可掃描超大對象。
6、配送旋轉台工件之立體、全方位掃描。
激光掃描儀是借著掃描技術來測量工件的尺寸及形狀等工作的一種儀器,激光掃描儀必須採用一個穩定度及精度良好的旋轉馬達,當光束打 ( 射 ) 到由馬達所帶動的多面棱規反射而形成掃描光束。
因多面棱規位於掃描透鏡的前焦面上,並均勻旋轉使激光束對反射鏡而言,其入射角相對地連續性改變,因而反射角也作連續性改變,經由掃描透鏡的作用,形成一平行且連續由上而下的掃描線。
它是一種十分准確、快速且操作簡單的儀器,且可裝置於生產在線,形成邊生產邊檢驗的儀器。激光掃描儀的基本結構包含有激光光源及掃描器、受光感 ( 檢 ) 測器、控制單元等部分。
❽ 二元光學的原理,要詳細
二元光學是基於光波衍射理論發展起來的一個新興光學分支,是光學與微電子技術相互滲透、交*而形成
的前沿學科。基於計算機輔助設計和微米級加工技術製成的平面浮雕型二元光學器件具有重量輕、易復制、造
價低等特點,並能實現傳統光學難以完成的微小、陣列、集成及任意波面變換等新功能,從而使光學工程與技
術在諸如空間技術、激光加工、計算技術與信息處理、光纖通信及生物醫學等現代國防科技與工業的眾多領域
中顯示出前所未有的重要作用及廣闊的應用前景。二元光學於20世紀90年代初在國際上興起研究熱潮,並同時
引起學術界與工業界的極大興趣及青睞。
隨著近代光學和光電子技術的迅速發展,光電子儀器及其元件都發生了深刻而巨大的變化。光學零件已經不僅
僅是折射透鏡、棱鏡和反射鏡。諸如微透鏡陣列、全息透鏡、衍射光學元件和梯度折射率透鏡等新型光學元件
也越來越多地應用在各種光電子儀器中,使光電子儀器及其零部件更加小型化、陣列化和集成化。微光學元件
是製造小型光電子系統的關鍵元件,它具有體積小、質量輕、造價低等優點,並且能夠實現普通光學元件難以
實現的微小、陣列、集成、成像和波面轉換等新功能。
光學是一門古老的科學。自伽利略發明望遠鏡以來,光學已走過下幾百年的漫長道路。60年代激光的出現,促
進了光學技術的迅速發展,但基於折反射原理的傳統光學元(器)件,如透鏡、棱鏡等人都是以機械的銑、磨、拋
光等來製作的,不僅製造工藝復雜,而且元件尺寸大、重量大。在當前儀器走向光、機、電集成的趨勢中,它
們已顯得臃腫粗大極不匹配。研製小型、高效、陣列化光學元件已是光學界刻不容緩的任務。 80年代中期,美
國MIT林肯實驗室威爾得坎普(Veldkamp)領導的研究組在設計新型感測系統中,率先提出了「二元光學」的概
念,他當時描述道:「現在光學有一個分支,它幾乎完全不同於傳統的製作方式,這就是衍射光學,其光學元
件的表面帶有浮雕結構;由於使用了本來是製作集成電路的生產方法,所用的掩模是二元的,且掩模用二元編
碼形式進行分層,故引出了二元光學的概念。」隨後二元光學不僅作為一門技術,而且作為一門學科迅速地受
到學術界和工業界的青睞,在國際上掀起了一股二元光學的研究熱潮。二元光學元(器)件因其在實現光波變換上
所具有的許多卓越的、傳統光學難以具備的功能,而有利於促進光學系統實現微型化、陣列化和集成化,開辟
了光學領域的新視野。關於二元光學概念的准確定義,至今光學界還沒有統一的看法,但普遍認為,二元光學
是指基於光波的衍射理論,利用計算機輔助設計,並用超大規模集成(VLSI)電路製作工藝,在片基上(或傳統光
學器件表面)刻蝕產生兩個或多個台階深度的浮雕結構,形成純相位、同軸再現、具有極高衍射效率的一類衍射
光學元件。它是光學與微電子學相互滲透與交*的前沿學科。二元光學不僅在變革常規光學元件,變革傳統光學
技術上具有創新意義,而且能夠實現傳統光學許多難以達到的目的和功能,因而被譽為「90年代的光學」。它
的出現將給傳統光學設計理論及加工工藝帶來一次革命。二元光學元件源於全息光學元件(HOE)特別是計算全
息元件(CGH)。可以認為相息圖(Kinoform)就是早期的二元光學元件。但是全息元件效率低,且離軸再現;相
息圖雖同軸再現。但工藝長期未能解決,因此進展緩慢、實用受限。二元光學技術則同時解決了衍射元件的效
率和加工問題。它以多階相位結構近似相息圖的連續浮雕結構。二元光學是微光學中的一個重要分支。微光學
是研究微米、納米級尺寸的光學元器件的設計、製作工藝及利用這類元器件實現光波的發射、傳輸、變換及接
收的理論和技術的新學科。微光學發展的兩個主要分支是:(1)基於折射原理的梯度折射率光學,(2)基於衍射原
理的二元光學。二者在器件性能、工藝製作等方面各具特色。二元光學是微光學領域中最具活力、最有發展潛
力的前沿學科分支。光學和電子學的發展都基於微細加工的兩個關鍵技術:亞微米光刻和各向異性刻蝕技術。
微電子學推動了二元光學學科的發展,而微電子工業的進步則得益於光刻水平的提高。此外,二元光學技術的
標量衍射理論和傅里葉光學進行分析的,關於二元光學元件衍射效率與相位階數之間的數學表達式也是標量衍
射理論的結果。在此范圍內,可將二元光學元件的設計看作是一個逆衍射問題,即由給定的入射光場和所要求
的出射光場求衍射屏的透過率函數。基於這一思想的優化設計方法大致有五種:蓋師貝格-撒克斯通
(Gerchberg-Saxton)演算法(GS)或誤差減法(ER)及其修正演算法、直接二元搜索法(DBS也稱爬山法(HC))、模擬退
火演算法(SA)和遺傳演算法(GA)。其中模擬退火演算法是一種適合解決大規模組合優化問題的方法,它具有描述簡單
、使用靈活、應用廣泛、運行效率高和較少受初始條件限制等優點;遺傳演算法是一種借鑒生物界自然選擇和自
然遺傳機制的高度並行、隨機、自適應搜索演算法,它將適者生存原理同基因交換機制結合起來,形成一種具有
獨特優化機制的搜索技術,而且特別適用於並行運算,已被應用到諸多領域。在國內,中國科學院物理研究所
楊國楨和顧本源提出任意線性變換系統中振幅-相位恢復的一般理論和楊-顧(Y-G)演算法,並且成功地應用於解
決多種實際問題和變換系統中。在許多應用場合中,二元光學元件的特徵尺寸為波長量級或亞波長量級,刻蝕
深度也較大(達到幾個波長量級),標量衍射理論中的假設和近似便不再成立,此時,光波的偏振性質和不同偏振
光之間的相互作用對光的衍射結果起著重大作用,必須發展嚴格的矢量衍射理論及其設計方法。矢量衍射理論
基於電磁場理論,須在適當的邊界條件上嚴格地求解麥克斯韋方程組,已經發展幾種有關的設計理論,如積分
法、微分法、模態法和耦合波法。前兩種方法雖然可以得到精確的結果,但是很難理解和實現,並需要復雜的
數值計算;比較起來,模態法和耦合波法的數學過程相對簡單些,實現也較容易。這兩種方法都是在相位調制
區將電磁場展開,所不同的是它們的展開形式,模態法將電磁場按模式展開,而耦合波法則將電磁場按衍射級
次展開。因而,耦合波方法涉及到的數學理論較為簡單,給出的是可觀察的衍射各級次的系數,而不是電磁場
模式系數。但總的來說,用這些理論方法設計二元光學元件都要進行復雜和費時的計算機運算,而且僅適合於
周期性的衍射元件結構。因此,當衍射結構的橫向特徵尺寸大於光波波長時,光波的偏振屬性變得不那麼重要
了,仍可採用傳統的標量衍射理論得到一些合理的結果。對於更復雜的衍射結構,還有待發展實用而有效的設
計理論。 二、製作工藝方面的進展二元光學元件的基本製作工藝是超大規模集成電路中的微電子加工技術。但
是,微電子加工屬薄膜圖形加工,主要需控制的是二維的薄膜圖形;而二元光學元件則是一種表面三維浮雕結
構,需要同時控制平面圖形的精細尺寸和縱向深度,其加工難度更大。近幾年來,在VLSI加工技術、電子、離
子刻蝕技術發展的推動下,二元光學製作工藝方面取得的進展集中表現在:從二值化相位元件向多階相位元件
、甚至連續分布相位元件發展;從掩模套刻技術向無掩模直寫技術發展。最早的二元光學製作工藝是用圖形發
生器和VLSI技術製作二階相位型衍射光學元件。到80年代後期,隨著高解析度掩模版製作技術的發展(如電子束
製版解析度可達到0.1μm),掩模套刻、多次沉積薄膜的對中精度的提高,可以製作多階相位二元光學元件,大
大提高了衍射效率。但是離散化的相位以及掩模的對准誤差,仍影響二元光學元件的製作精度和衍射效率的提
高。為此,90年代初開始研究直寫技術,省去掩模製作工序,直接利用激光和電子束在基底材料上寫入所需的
二維或三維浮雕圖案。利用這種直寫技術,通過控制電子束在不同位置處的曝光量,或調制激光束強度,可以
刻蝕多階相位乃至連續分布的表面浮雕結構。無掩模直寫技術較適於製作單件的二元或多階相位元件,或簡單
的連續輪廓,而利用激光掩模和套刻製作更適合於復雜輪廓和成批生產。在掩模圖案的刻蝕技術中,目前主要
採用高解析度的反應離子刻蝕、薄膜沉積技術。其中離子束刻蝕的解析度高達0.1μm,且圖案邊緣陡直准確
,是一種較為理想的加工手段。二元光學元件的一個很大的優點是便於復制,常用的復制技術有:鑄造法
(casting)、模壓法(embossing)和注入模壓法(injection molding)。其中電鑄成型模壓復制將是未來大規模生
產的主要技術。根據二元光學元件的特點,其他一些新工藝,例如LIGA、溶膠-凝膠(sol-gel)、熱溶及離子
擴散等技術也被應用於加工二元光學元件,還可利用灰階掩模及PMMA紫外感光膠製作連續相位器件。 三、應
用方面的進展隨著二元光學技術的發展,二元光學元件已廣泛用於光學感測、光通信、光計算、數據存儲、激
光醫學、娛樂消費以及其他特殊的系統中。也許可以說,它的發展已經經歷了三代。第一代,人們採用二元光
學技術來改進傳統的折射光學元件,以提高它們的常規性能,並實現普通光學元件無法實現的特殊功能。這類
元件主要用於相差校正和消色差。通常是在球面折射透鏡的一個面上刻蝕衍射圖案,實現折/衍復合消像差和較
寬波段上的消色差。如美國柏金-愛爾馬(Perkin-Elmer)公司成功地用於施密特(Schmidt)望遠鏡上消除球差
;美國豪奈威爾(Honey-well)公司在遠紅外系統中,實現了復消色差,它們還採用二元光學技術製作出小型光
盤讀寫頭。此外,二元光學元件能產生任意波面以實現許多特殊功能,而具有重要的應用價值。如材料加工和
表面熱處理中的光束整形元件、醫療儀器中的He-Ne激光聚焦校正器、光學並行處理系統中的光互連元件(等光
強分束Dammann光柵)以及輻射聚焦器等。二元光學元件的第一代應用技術已趨於成熟,國際上有50多家公司
正利用混合型特殊功能元件設計新型光學系統。第二代,主要應用於微光學元件和微光學陣列。 80年代末,二
元光學進入微光學領域,向微型化、陣列化發展,元件大小從十幾個μm至1mm。用二元光學方法製作的高密
度微透鏡陣列的衍射效率很高,且可實現衍射受限成像。另外,當刻蝕深度超過幾個波長時,微透鏡陣列表現
出普通的折射元件特性,並具有獨特的優點:陣列結構比較靈活,可以是矩陣、圓形或密排六方形排列;能產
生各種輪廓形狀的透鏡表面,如拋物面、橢圓面及合成表面等;陣列透鏡的「死區」可降到零(即填充因子達到
100%)。這類高質量的衍射或折射微透鏡陣列,在光通信、光學信息處理、光存儲和激光束掃描等許多領域中
有重要的應用。比如二元微光學元件在多通道微型感測系統中可作為望遠混合光學系統、光束靈巧控制、多通
道處理、探測器陣列和自適應光互連。第三代,即目前正在發展的一代,二元光學瞄準了多層或三維集成微光
學,在成像和復雜的光互連中進行光束變換和控制。多層微光學能夠將光的變換、探測和處理集成在一體,構
成一種多功能的集成化光電處理器,這一進展將使一種能按不同光強進行適應性調整、探測出目標的運動並自
動確定目標在背景中的位置的圖像感測器成為可能。Veldkamp將這種新的二元光學技術與量子阱激光陣列或
SEED器件、CMOS模擬電子技術結合在一起,提出了「無長突神經細胞電子裝置(Amacronic)」的設想,它把
焦平面結構和局域處理單元耦合在一起,以模仿視網膜上無長突神經細胞的近距離探測,系統具有邊緣增強、
動態范圍壓縮和神經網路等功能。這一代微光學技術的典型應用是多層光電網路處理器。這是一種焦平面預處
理技術,它以二元光學元件提供靈活反饋和非線性預處理能力。探測器硅基片上的微透鏡陣列將入射信號光聚
焦到陣列探測器的激活區,該基片的集成電路則利用會聚光激發砷化鎵銦二極體發光,其發射光波第二層平面
石英基底兩面的衍射元件引導到第三層面硅基底的陣列探測器上,經集成電路處理後激發二極體發光……依次類
推,得到處理後的信號。這種多層焦平面預處理器的每一層之間則利用微光學陣列實現互連耦合,它為感測器
的微型化、集成化和智能化開辟了新的途徑。 發展趨勢 二元光學是建立在衍射理論、計算機輔助設計和微細加
工技術基礎上的光學領域的前沿科學之一,超精細結構衍射元件的設計與加工是發展二元光學的關鍵技術。二
元光學的發展不僅使光學系統的設計和加工工藝發生深刻的變革,而且其總體發展趨勢是未來微光學、微電子
學和微機械的集成技術和高性能的集成系統。今後二元光學元件的研究將可能在以下方面發展。一、具有亞波
長結構的二元光學元件的研究(包括設計理論與製作技術) 這類元件的特徵尺寸比波長還要小,其反射率、透射
率、偏振特性和光譜特性等都顯示出與常規二元光學元件截然不同的特徵,因而具有許多獨特的應用潛力,如
可以作為抗反射元件、偏振元件、窄帶濾波器和相位板。研究重點包括:建立正確和有效的理論模型設計超精
細結構衍射元件;特殊波面變換的演算法研究;發展波前工程學,以製作逼近臨界尺寸的微小元件及開拓亞波長
結構衍射元件的應用,推動微光學的發展。二、二元光學的CAD軟體包的開發至今尚未找到適合於不同浮雕衍
射結構的簡單而有效的理論模型,二元光學元件的設計仍缺乏像普通光學設計程序那樣,可以求出任意麵形、
傳遞函數及系統像差、具有友好界面的通用軟體包。但隨著通用設計工具的發展,二元光學元件有可能成為通
用的標准光學元件,而得到廣泛的應用,並與常規光學結合,形成一代嶄新的光學系統。
三、微型光機電集成系統是二元光學研究的總趨勢微光電機械繫統微光機械微電子機械微機械 1991年,美國
國家關鍵技術委員會向美國總統提交了《美國國家關鍵技術》報告,其中第8項為「微米級和納米級製造」,即
微工程技術,它主要包括微電子學、微機械學和微光學這三個相互關聯相互促進的學科,是發展新一代計算機
、先進機器人及智能化系統,促進機械、電子及儀器儀表工業實現集成化、微型化的核心技術。二元光學技術
則是發展微光學的重要支柱,二元光學元件有可能直接刻蝕在集成電路晶元上,並在一塊晶元上布置微光學陣
列,甚至完全集成化的光電處理單元,這將導致包含各種全新的超密集感測系統的產生。
微光電子學微光學微電子學圖示描述了微工程技術的三個學科相互交*相互影響形成的交*學科。在微光學取得
令人注目的進展的同時,另一門前沿科學——微電子機械(MEM)學取得了飛速的發展,這種結合三維集成電路
處理技術的微機械方法已成功地用於改善感測器和執行器的性能,降低費用。基於這種新技術設計的微感測器
和微機械執行器,至少在一個維數上的尺寸已達到微米量級,其他維數也小於幾個毫米,對軍用、工業和消費
產品都有潛在的應用市場。 MEM和微光學技術的共同特徵是它們都基於VLSI技術,兩者的結合就能產生一個
新的、更寬廣的微光電機械繫統,它已經在激光掃描、光學開關、動態微透鏡和集成光電-機電裝置等方面顯
示出誘人的前景和產品市場,並將進一步開拓到微分光儀、微干涉儀和小型在線機械檢測系統等領域。在微機
械、微電子支撐下的微光學系統也更易商品化,從而形成二元光學產業。具有多層結構的Amacronic焦平面預
處理器是微光學、微電子學和微機械集成系統的典型應用,它以並行光學處理方式降低了對電子處理速度和帶
寬的要求,增強了集成系統的處理能力和靈活性。多層微光電機械裝置的進一步發展甚至可以模仿生物視覺原
理,這個方向的研究成果對於人類將有無法估量的意義。可以預見,光學工程師們能像今天的電子工程師們一
樣,坐在計算機終端前,通過按動滑鼠或敲擊鍵盤來設計組合二元光學元件以及各種光機電組合系統,這一天
的到來為時不會太久。
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❾ 我的眼睛醫生說不是斜視但是我總覺得有點內斜,能不能整容啊
目前國內最好的眼科醫院是 北京同仁 和華山醫院
他們的網址 你可以去看看
http://www.trhos.com/index.asp
http://www.yqkq.com/huashan/index.htm
有什麼不懂得也可以Q我65515138
成人可以通過手術校正,可以先到大醫院的眼科去咨詢一下。起的斜視。3、A、V綜合征,水平位的斜視程度與垂直方向有關,即水平性斜視向上、下注視時其原有的斜視程度發生改變,呈象形的英文字母A或V型的改變。4、特殊類型斜視:甲狀腺相關眼病,先天性的解剖異常等。
如何治療斜視:不同類型的斜視治療方法不同。共同性斜視首先應充分散瞳驗光,如果戴眼鏡後斜視不能完全矯正,或斜視與戴眼鏡沒有關系時則應手術治療。小兒應較早的執行手術以保全良好雙眼視覺、融合及立體視功能。非共同性斜視應首先尋找致病原因。待病情穩定後6個月以上再行手術治療。
針對你的情況,你可以採用佩戴三棱鏡的方法試試看能否治療。
光線穿過三棱鏡後向其基底方向折射,物像向其尖端方向移位,根據物像移位的規律和斜視度的大小,在斜視眼前放置三棱鏡,並不斷改變三棱鏡的度數,直至外界物體成像於斜視眼的黃斑,雙眼有了共同的視覺方向,復視也就得以消除。
根據不同方向的斜視,三棱鏡基底放置的方向如下;
外斜;基底向內,即向鼻側。
內斜:基底向外,即向顳側。
上斜:基底向下。
下斜;基底向上。
由於三棱鏡產生物像移位。隨三棱鏡度數的增加移位增大,而人的雙眼對移位的耐受有一定限度,平均限度不超過10個三棱鏡度。
三棱鏡治療斜視,常用於以下幾種情況:1、小角度斜視。2、斜視手術後的殘留斜位。3、有症狀的隱斜視或旋轉斜視、垂直斜視。
好運!!
斜視有哪幾種?如何治療?
斜視,是指兩眼視軸不正,有偏內、偏外或上、下不正的情形。正常人的兩眼視物應是正而平行的,當注視一個物體的時候,此物體的影像即分別落在兩眼視網膜的視黃斑中心凹上,再經過大腦的融像能力,才使兩眼所見的影像合而為一。斜視的病人因為眼位不正,其注意一個物體時,此物體影像於正常眼落在視網膜中心凹上,斜視眼眼則落在中心凹以外的位置,如此視物就會出現復視情形;一眼影像受到抑制,喪失兩眼之單一視機能與立體感,有的還會導致視力發育不良而造成弱視。因此,斜視不僅是美觀上的問題,更重要的是若不及時治療,常會造成無法彌補的視覺功能異常與弱視。
斜視一般可分為內斜視、外斜視與上下斜視。
(一)內斜視:一般俗稱斗雞眼。眼位向內偏斜。臨床上可分為先天性與後天性斜視。在出生至內發生者稱之為先天性內斜視。偏斜角度通常很大。後天性內斜視又分為調節性與非調節性,調節性內斜視常發生在2-3歲左右,通常會伴有中高度遠視,或是異常的調節內聚力與調節比率;非調節性內斜視則和調節力與屈光狀態無關。
(二)外斜視:即眼位向偏斜,一般可分為間歇性與持續性外斜視。間歇性外斜視因病人具有較好的融像能力,大部份的時間眼位可由融像能力維持在正常的位置,只有偶而在陽光下或疲乏不經心的時候,才表現出外斜的眼位。有些兒童為了避免外斜眼位引起的復視,在大太陽常會閉一隻眼睛。間歇性外斜視常會發展成持續性外斜視,而偶而出現外斜視的情形變成終目持續的外斜視。
(三)上、下斜視:即眼位向上或向下偏斜,一般較少見,上下斜視常常並有頭部歪斜的情形。
斜視的治療方法,因斜視的類別不同而異,一般可分為手術療法與非手術療法。
(一)手術療法乃以手術的方法調整外眼肌的強度與附著點的位置,使眼位趨於正常。先天性內斜視與上下斜視大多需要手術治療,非調節性而且斜度大的斜視通常亦需要借著手術的方法來矯正。
(二)非手術療法:並非所有的斜視都需要手術治療,如果是調節性內斜視,只要戴上適當的遠視眼鏡或雙光鏡就可以矯正。如果並有中高屈光異常,亦常需配戴眼鏡來矯正,另外可借著軸矯正訓練的方法來幫助兩眼單視能的恢復與增加融像能力。例如以視軸矯正訓練機來訓練,或者配戴棱鏡鏡片……等。如果並有弱視,則弱視的訓練亦是不可或缺的治療。